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      鈦靶材

      [ 信息發(fā)布:本站 | 發(fā)布時(shí)間:2019-11-15 | 瀏覽:12500 ]

      1、概述

      靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。有金屬類、合金類、氧化物類等等。更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。

      (1)金屬靶材:鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。   

      (2)陶瓷靶材:ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶,、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶五氧化二鉭,五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化硅靶,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。

      2、靶材的主要性能要求

      (1)純度

      純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一,因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。不過在實(shí)際應(yīng)用中,對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展,硅片尺寸由6”、 8”發(fā)展到12”,而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求,而制備0.18um線條對(duì)靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。   

      (2)雜質(zhì)含量

      靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如,半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材,對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

      (3)密度

      為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率,還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。

      (4)晶粒尺寸及晶粒尺寸分布  

      通常靶材為多晶結(jié)構(gòu),晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。對(duì)于同一種靶材,晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快;而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

      3、材質(zhì)

      TA0、TA1、TA2、TA9、TA10、ZR2、ZR0、GR5、GR2、GR1、TC11、TC6、TC4、TC3、TC2、TC1

      4、用途

      廣泛應(yīng)用于裝飾鍍膜、耐磨鍍膜、電子行業(yè)CD、VCD等各類光碟以及各種磁碟鍍膜等。

      鎢-鈦(W-Ti)膜以及以鎢-鈦(W-Ti)為基的合金膜是高溫合金膜,具有一系列不可替代的優(yōu)良性能。鎢具有高熔點(diǎn)、高強(qiáng)度和低的熱膨脹系數(shù)等性能,W/ Ti合金具有低的電阻系數(shù)、良好的熱穩(wěn)定性能和抗氧化性能。如各種器件都需要起到導(dǎo)電作用的金屬布線,例如Al、Cu和Ag等已經(jīng)被廣泛的應(yīng)用和研究。但是布線金屬本身易 氧化、易與周圍的環(huán)境發(fā)生反應(yīng),與介質(zhì)層的粘結(jié)性差,易擴(kuò)散進(jìn)入Si與SiO2等器件的襯底材料中,并且在較低的溫度下會(huì)形成金屬與Si的化合物,充當(dāng)了雜質(zhì)的角色,使器件的性能大幅度下降。而W-Ti合金因具有穩(wěn)定的熱機(jī)械性能、低的電子遷移率、高的抗腐蝕性能和化學(xué)穩(wěn)定性使其很容易作為布線擴(kuò)散阻擋層,特別是適合在高電流和高溫的環(huán)境下使用。

      5、發(fā)展前景

      鎢-鈦靶材作為光伏電池鍍膜材料是最近發(fā)展起來的,它作為第三代太陽能電池的阻擋層是最佳選擇?! ?

      由于W-Ti系列薄膜具有非常優(yōu)良的性能,近幾年來應(yīng)用量急劇增加,2008年W-Ti靶材世界用量已達(dá)到400t,隨著光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,這種靶材的需求量會(huì)越來越大。據(jù)行業(yè)預(yù)測(cè)其用量還會(huì)有很大的增加。國際太陽能電池市場(chǎng)以100%的速度增長,目前世界上有多家公司參與太陽能市場(chǎng)的進(jìn)一步開發(fā),并已投入市場(chǎng),如德國的Wverthsurlfulcell,美國的Global solar Energy,日本的Honda showa Solar shell,日立金屬公司等。

      我國研發(fā)的超大尺寸、高密度、高純W-Ti靶材,是屬于新型的離子濺射鍍膜靶材料。可廣泛應(yīng)用于顯示屏的阻擋層或調(diào)色層,筆記本電腦的裝飾層、電池的封裝、太陽能(光伏)電池的阻擋層,具有很好市場(chǎng)前景和經(jīng)濟(jì)效益。另一方面又可帶動(dòng)我國鎢產(chǎn)業(yè)的產(chǎn)品升級(jí)換代,獲得更高的附加值。



      寶雞市宏亞達(dá)有色金屬材料有限公司

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